浦东林，工学博士，研究员，从事微纳光学结构制备与创新应用研究。
研究领域：
从硕士研究生毕业参加工作以来，从事全息光学信息处理、微纳光学结构制备技术与创新应用研究，重点开展数字化光场调控机理与图形化直写光刻技术、光刻仪器工程化研制和应用研究工作，开发了基于“结构模型”-“数据处理”-“并行扫描曝光”的图形化直写光刻模式，实现了连续3D形貌微结构的数字化可控制备，为微纳光电子器件和材料的创新研发提供了有效方法。
投身苏州大学与苏州苏大维格科技集团的产学研工作，带领研究团队开展高端仪器设备的开发与应用，获得了良好的社会影响和应用价值。主持完成了系列化多型号直写光刻系统的自主开发，4-8英寸中小尺寸设备（Microlab、MiScan）在科研院所及企业研发应用，并实现出口，110英寸大型紫外三维光刻直写设备iGrapher3000，投入工业化运行。推动微纳光刻技术在产品创新开发中应用，为新型微纳3D印刷材料、超薄导光器件、大尺寸触控传感器等产品开发提供数据处理软件、直写光刻设备与工艺支撑。
当前研究兴趣是多维光场图形化调控及直写光刻方法创新，并应用于新型光电器件的研究开发，同时关注微纳光刻在光伏、光电子、微纳功能材料等产业的创新应用。
代表性成果：
1、混合直写光刻技术与装备：解决了高精度仪器设计和运行可靠性问题，研制成功的多型号直写光刻仪器实现应用，2015年获得江苏省科学技术奖（二等，排名第一），2019年获得江苏省首台套重大装备认定，2022年获得中国光学学会首届“金燧奖”中国光电仪器品牌榜金奖。
2、大幅面三维光刻技术与装备：突破了110英寸写入幅面的米级跨度双驱机械结构、多参量同步控制和百TB级数据处理问题，实现装备运行并服务于光电子器件和材料的创新开发，获得2019年度国家科技进步奖（二等，排名第四）。
3、数字光场调控的光刻工艺与应用：突破亚波长至百微米级跨尺度、大深宽比、3D形貌等微结构的光刻工艺技术，形成工艺资料库，支撑器件研究，获得多项重点项目支持。