- 1、直写光刻系统和直写光刻方法,CN201911303595.7,发明授权
- 2、大面积纳米光刻系统及其方法,CN201910024456.4,发明授权
- 3、3D打印系统及3D打印方法,CN201710282261.0,发明授权
- 4、混合光刻系统及混合光刻方法,CN201710206374.2,发明授权
- 5、一种体全息元件制作方法,CN201611033273.1,发明授权
- 6、纳米图形化衬底制备装置与方,CN201310236124.5,发明授权
- 7、一种光刻装置和光刻方法,CN201010503788.X,发明授权
- 8、并行光刻直写系统,CN201010170978.4,发明授权
- 9、用于紫外激光干涉光刻直写系统的光学镜头,CN200910028297.1,发明授权
